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加熱制冷循環(huán)裝置

簡要描述:

GDZT-100-200-30加熱制冷循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。

型號 GDZT-100-200-30
更新時間 2020-07-11
訪問次數 1220
加熱制冷循環(huán)裝置

GDZT-100-200-30能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。

GDZT-100-200-30加熱制冷循環(huán)裝置用途特點:

1、分3個系統(tǒng):制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng),三個系統(tǒng)可連續(xù)使用,也可分別單獨使用。

2、快速加熱和冷卻,可連續(xù)升降溫。

3、溫度控制范圍寬,全程不需更換導熱介質,導熱介質消耗少。

4、全封閉循環(huán)系統(tǒng),高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化,低溫下不易吸入空氣中的水分,可延長導熱流體的使用壽命。

5、高溫冷卻、制冷功能,可以從高溫直接降溫(如可從200℃直接降溫)。

6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器,占用空間小,換熱效率高。

7、液位顯示功能,隨時監(jiān)控液位,避免缺液。

8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能,充分保證使用安全。

9、冷凝、預冷方式為風冷,節(jié)約水資源。

GDZT-100-200-30加熱制冷循環(huán)裝置典型應用:

1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。

2、攪拌罐的溫度控制。

3、材料測試中的應用。

4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

6、恒溫控制系統(tǒng)。

7、半導體設備的溫度控制。

8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

9、真空室的溫度控制。

GDZT-100-200-30功能優(yōu)點:

1、智能型溫度控制。

2、溫度控制穩(wěn)定性好。

3、加熱和制冷速度快,可連續(xù)升降溫。

4、全密閉循環(huán)系統(tǒng),延長導熱油使用壽命。

5、采用磁力驅動泵,整個溫度范圍內實現(xiàn)零泄漏。

6、溫度范圍寬。

7、故障報警功能。

8、具有延時、過熱、過電流保護功能。

9、液位顯示功能,跟蹤監(jiān)控膨脹箱內液位。

GDZT-100-200-30控制優(yōu)點:

1、模糊運算和PID主動演算功能控溫精度高,可達到±0.5℃。

2、有預約功能,可設定設備自動運行時間。

3、有待機功能(控制溫度),可以準確控制實驗有效時間。

4、兩種控制方式(定值/程式)。

5、可顯示密閉制冷加熱循環(huán)裝置聯(lián)用負載的溫度變化曲線。

6、程式編程:可編50組程式,每組程式max為100段。

7、通訊接口。

GDZT-100-200-30技術參數:

型號

GDZT-100-200-30

儲液槽容積(L)

30

加熱容積(L)

3

加熱罐尺寸(mm)

¢90×480

油箱尺寸(mm)

450×150×450

使用溫度范圍(℃)

-30-200

環(huán)境溫度(℃)

≤25℃

環(huán)境相對濕度(℃)

≤60

空載zui低溫度

-30℃

電源

380V±10% 50HZ

加熱功率(W)

12000

制冷量(KW)

200℃

3

10℃

8.3

-10℃

6.3

-20℃

4.6

-30℃

2.6

儀表控溫范圍

-100℃-400℃

導熱介質溫控精度(℃)

±0.5

反應物料溫控精度(℃)

±1

傳感器

PT100

介 質 粘 度

500C.S.T

循環(huán)泵功率(w)

280

揚程(m)

10

流量(L/min)

35

壓力(Mpa)

4

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